平面度
図１ 平面度校正用フィゾー干渉計
「平面度」は重要な幾何学偏差量の一つであり、近年、フォトマスクやシリコンウエハ、 液晶基板、光学素子、工業用平面基準器（オプティカルフラット） など様々な場面で高精度な平面が要求されています。産業技術総合研究所では、 独自技術の大型フィゾー干渉計を開発し、300 mmの範囲に対して測定不確かさ10 nm （k＝ 2） の精度で平面度の絶対校正を行っています。
校正範囲：300 mm（12インチ）以下、参照オプティカルフラットによる比較測定
| 拡張不確かさ（k=2） | 条件・備考 | 認定 |
|---|---|---|
| 10 nm | ASNITE認定、KCDB登録（別ウィンドウが開きます） |
校正技術
参照オプティカルフラットによる比較測定の校正技術については、 産総研 TODAY, Vol. 4 (2004)（別ウィンドウが開きます）, No. 7, p. 7 をご参照下さい。 [PDFファイルはこちら、570KB]
校正責任者
近藤 余範参加国際比較
| 比較番号 | 比較の種類 | 比較実施時期 | 測定対象 | 国際比較DB （英語、別ウィンドウが開きます。） |
|---|---|---|---|---|
| APMP.L-S8 | APMP補完比較 | 2015年-2016年 | オプティカルフラット（直径60 mm, 150 mm） | APMP.L-S8 |
| EURAMET.L-S28 | EURAMET補完比較 | 2020年-2021年 | Zerodur製オプティカルフラット（直径330 mm） | EURAMET.L-S28 |