300mmプロセシング
プラットフォーム
研究チーム
300mm Processing Platform Research Team


300mmプロセシングプラットフォーム研究チーム研究チームについて

300mmシリコンウェハ向け半導体製造プロセスの
オープンイノベーション

半導体のオープンイノベーションに取り組んでいます。100台以上の半導体製造設備を用い、産総研が取り組む先端半導体関連プロジェクト、産総研外の研究開発機関からのご依頼に応える試作受注サービスを展開しています。オープンイノベーションの場でありながら、半導体量産工場と同様の300mmシリコンウェハ対応、金属汚染管理体制を整えていることなどが特徴です。 MOSやCu配線、シリコンフォトニクスなどのデバイス試作を行なえるプロセスプラットフォームを保有しています。 SCRの概要及び試作サービスの詳細については、以下のHPをご参照下さい。

産総研スーパークリーンルーム(SCR) (aist.go.jp) 

300mmプロセシングプラットフォーム研究チームKeywords

300mmシリコンウェハ

現在量産で主流の、シリコンで作製された直径300mmの半導体基板

金属汚染

半導体製造工程において金属等の不純物が不要に付着・混入すること

300mmプロセシングプラットフォーム研究チーム研究施設

スーパークリーンルーム(SCR)

外部公開サイト:産総研スーパークリーンルーム(SCR) (aist.go.jp) 

ArF液浸露光装置
SCR内部風景
半導体プロセスによってパターン形成された300mmシリコンウェハ

300mmプロセシングプラットフォーム研究チームメンバー

新⾕ 俊通
チーム長
森⽥ ⾏則
Webサイト
越野 圭⼆
技術担当主幹
石塚 栄一
主任技師
上西 裕
主任技師
佐々木 富雄
主任技師
竹澤 保成
主任技師
松磨 和幸
主任技師
宮木 友則
主任技師
石川 智弘
招聘研究員
上田 哲也
招聘研究員
八木下 淳史
招聘研究員
池原 毅
兼務
⻲井 利浩
兼務
⽔林 亘
兼務

Research Team

国立研究開発法人 産業技術総合研究所
先端半導体研究センター

〒305-8569 茨城県つくば市小野川16-1 つくば西7群  [交通アクセス]
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