先端半導体研究センターについて
半導体は、私たちの生活のさまざまな場面で活用され、社会課題の解決や産業競争力強化になくてはならない存在になっています。
昨今の、データ活用を推進するデジタルトランスフォーメーション(DX)や脱炭素を目指すグリーントランスフォーメーション(GX)はさらにこの流れを加速させています。
そのため、経済安全保障の観点からも、半導体の重要性が増しています。
経済産業省の「半導体・デジタル産業戦略」（2021年6月公開、2023年6月改訂）において、半導体製造基盤をわが国に確保するとともに、次世代技術の確立や将来技術の研究開発を推進する方針が明記されています。産総研は、これまでも、「次世代コンピューティング基盤戦略」（2022年6月）を策定するとともに、戦略の目標実現に向けた研究開発を行ってきました。
先端半導体研究センター（SFRC）は、これらの活動を加速し、わが国に先端半導体技術を確保することを目指します。また、研究開発、共用パイロットラインの構築、社会実装、人材育成を一貫して実施することで、先端半導体のオープンイノベーションを推進する中核拠点となることを目指します。
主な開発技術
2nm
ナノシート型CMOSの製造プロセス基盤技術の開発
企業・大学等が利用可能な共用パイロットラインの構築
Beyond 1nm
トランジスタの縦積みによる従来の集積化限界突破
Beyond 0.5nm
層状2次元半導体材料により従来Siデバイスにおけるスケーリングの物理限界突破を目指す
先端半導体パイロットライン
床面積3000㎡の産総研スーパークリーンルーム施設を用いたGAA-FETの試作等、パイロットラインを利用した先端半導体製造技術の研究開発を企業・大学等と連携して実施します。
