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量子デバイス研究チーム

概要

  • 超伝導量子ビットの高性能化・高集積化の研究
  • 超伝導X線検出器の高感度化の研究
  • 共用デバイス試作施設(Qufab)の管理運営

  • チームの研究課題

    超伝導量子ビットの高性能化・高集積化に関する研究

    超伝導量子コンピュータにおける超伝導量子ビットの高性能化・高集積化を材料・プロセス・設計の観点より研究を行っています。本研究は、NEDOPJ「量子計算及びイジング計算システムの統合型研究開発」で実施しています。
    Al/AlOx/Alジョセフソン接合の上面SEM像

    Al/AlOx/Alジョセフソン接合の上面SEM像

    Taキャップ層有無のNb共振器の内部Q値と平均光子数の関係

    Taキャップ層有無のNb共振器の内部Q値と平均光子数の関係(Y. Urade et al., Extended Abstracts of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2022, pp191-192.)


    超伝導X線検出器の高感度化の研究

    超伝導トンネル接合X線検出器の高感度化の研究を行っています。本検出器は、検出限界数100ppmと、従来のXPS、EDXの検出限界1%より超高感度で検出できる特徴が有ります。
    量子アニーリングを用いた量子化学計算

    超伝導X線検出器の顕微鏡写真

    超伝導X線検出器の顕微鏡写真と断面図

    断面図


    共用デバイス試作施設(Qufab)の管理運営


    共用デバイス試作施設(Qufab)
    の管理運営を行っています。この施設は4インチのデバイス試作ラインで、プロセス利用及び試作サービスを提供しています。Qufabは、超伝導量子ビット・回路、超伝導デジタル・アナログ集積回路、超伝導3次元実装ができます。


    チームの構成メンバー

    顔写真 所属・役職および名前 専門分野 その他、etc
    ○○グループ長の写真
    チーム長
    水林 亘
    (Wataru MIZUBAYASHI)
    半導体デバイス・プロセス、信頼性、超伝導量子デバイスプロセス  
    ○○主任研究員の写真
    特定フェロー
    牧瀬 圭正
    (Kazumasa MAKISE)
    超伝導量子・アナログ・デジタルデバイス・プロセス開発、超伝導3次元実装、低次元超伝導物性物理  
    ○○主任研究員の写真
    研究主幹
    山森 弘毅
    (Hirotake YAMAMORI)
    超伝導デバイスの研究開発  
    ○○主任研究員の写真
    主任研究員
    平野 育
    (Iku HIRANO)
    周波数制御、イオントラップ、電気計測  
    ○○研究員の写真
    主任研究員
    全 伸幸
    (Nobuyuki ZEN)
    フォノン工学、超電導の電磁特性、超電導デバイス、時間の矢  
    ○○研究員の写真
    主任研究員
    辻本 学
    (Manabu TSUJIMOTO)
    超伝導量子デバイスの製造技術/高温超伝導体サブテラヘルツ光源の基盤研究/量子材料物性/ナノ構造物理  
    ○○主任研究員の写真
    研究員
    藤田 裕一
    (Yuichi FUJITA)
    超伝導量子ビット大規模集積回路技術の研究開発  
    ○○研究員の写真
    研究員
    浦出 芳郎
    (Yoshiro URADE)
    誤り耐性量子コンピュータに向けた超伝導量子回路の研究  
    ○○主任研究員の写真
    研究員
    知名 史博
    (Fumihiro CHINA)
    超伝導デジタル論理回路、超伝導デバイス作製技術  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    藤井 剛
    (Go FUJII)
     
    ○○研究員の写真
    チーム付
    菊地 克弥
    (Katsuya KIKUCHI)
    3次元集積実装技術の研究開発  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    藤野 真久
    (Masahisa FUJINO)
    W2W/C2Wハイブリッド接合 ; ハイブリッド接合表面CMP ; フュージョン接合/表面活性化接合界面の構造解析 ; 超伝導金属接合 ; 量子デバイス実装  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    渡辺 直也
    (Naoya WATANABE)
    3次元集積回路のプロセス技術に関する研究  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    森 貴洋
    (Takahiro MORI)
    半導体素子集積化技術・デバイス物理(シリコン量子ビット素子大規模集積化技術、クライオCMOSデバイス技術)  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    浅井 栄大
    (Hidehiro ASAI)
     
    ○○研究員の写真
    チーム付
    加藤 公彦
    (Kimihiko KATO)
    半導体素子集積化技術・デバイス物理(トンネルトランジスタ・シリコン量子ビット素子、プロセス技術)  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    荒賀 佑樹
    (Yuuki ARAGA)
    三次元実装半導体における電磁干渉の解析、実測 ; 超伝導三次元実装のためのマイクロバンプ接合及び直接接合手法の開発  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    岡 博史
    (Hiroshi OKA)
    半導体素子集積化技術・デバイス物理(シリコン量子ビット素子、クライオCMOSデバイス技術)  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    飯塚 将太
    (Shota IIZUKA)
    半導体素子集積化技術・デバイス物理(デバイスシミュレーション技術)  
    ○○研究員の写真
    チーム付
    稲葉 工
    (Takumi INABA)
    半導体素子集積化技術・デバイス物理(クライオCMOSデバイス技術、モデリング)  
    ○○主任研究員の写真
    研究主幹
    日塔 光一
    (Koh-ichi NITTOH)
    超伝導量子回路のプロセス研究と開発  

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