電子光基礎技術研究部門

2021年1月29日

先進プラズマプロセスグループの布村正太上級主任研究員が、文部科学省共同利用・共同拠点名古屋大学低温プラズマ科学研究センターよりプラズマ材料科学賞奨励部門賞を授与されました。 対象となりました研究は、「プラズマ誘起欠陥リアルタイムその場検出技術の開発」です。

2020年10月1日

経済産業省が産業標準化活動に優れた功績を有する人物、組織を表彰する「令和2年度産業標準化事業表彰」において、先進プラズマプロセスグループの榊田創研究グループ長が、産業技術環境局長表彰を受賞しました。 低エネルギー電離ガス止血機器に関する日本からの提案をConvenerとして主導し、国際標準の発行に貢献したことが功績とされました。

2020年10月1日

光情報技術３グループ(フォトニクスシステムグループ、光実装グループ、シリコンフォトニクスグループ) を分離して、プラットフォームフォトニクス研究センターを設立しました。

2020年5月29日

シリコンフォトニクスグループの高磊主任研究員が、レーザー学会においてレーザー学会奨励賞を授与されました。対象となった発表は「転写技術に基づく異種材料集積光デバイス」［レーザー学会第40回年次大会学術講演会シンポジウム講演S09-21p-II-07（2020）］です。

2020年4月1日

電子光技術研究部門は、4月1日より電子光基礎技術研究部門と名称を変更しました。また、酸化物デバイスグループは酸化物エレクトロニクスグループとなりました。

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