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Research Institute for Advanced Electronics and Photonics
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光プロセス技術
先進プラズマプロセスグループ
(グループ長 清水 鉄司)
先進プラズマプロセス技術の高度制御による革新的な省エネルギー・低環境負荷エレクトロニクスデバイスの開発と成果の社会還元、及び、安心・安全な超高齢化社会実現への貢献を目指しています。
先進レーザープロセスグループ
(グループ長 奈良崎 愛子)
新しい材料やデバイスに資する、光の特徴を生かしたレーザー技術開発を目指します。例えば、難加工材料のレーザー加工や条件最適化に特化したレーザー加工システム、レーザープロセスに基づく迅速検査技術、バイオ・医療に貢献するレーザー技術を研究開発しています。
分子集積デバイスグループ
(グループ長 吉川 佳広)
分子集積デバイスグループでは、有機化合物を中心とした、革新的な材料・プロセス・デバイス技術の開発によって、産業界のニーズに応えることを目指しています。
新原理エレクトロニクス
化合物半導体デバイスグループ
(グループ長 山田 永 )
環境・エネルギー、医療・災害救助、情報・セキュリティ等の社会課題を解決する新たなイノベーション創出に向け、革新的な電子光半導体デバイスの開発を推進します。
超伝導エレクトロニクスグループ
(グループ長 荻野 拓)
革新的イノベーションに向けて、新超伝導材料の開発、理論・実験両面からのアプローチによる高温超伝導機構解明、およびそれらの応用技術の開発に取り組んでいます。
強相関エレクトロニクスグループ
(グループ長 山田 浩之)
新しい電子デバイス動作原理である強相関電子系の電子相制御技術の開発と、それに基づく不揮発性メモリや低消費電力スイッチ、次世代パワエレ半導体など低環境負荷の革新的材料創製、デバイス技術の開発を行います。
メゾスコピック材料グループ
(グループ長 堤 潤也 )
塗布型電子デバイス製造技術の高度化・高付加価値化を目的とし、ボトムアップ的なアプローチに立脚した原子・分子のメゾスコピックな相互作用・自己組織化の制御により、集合体が発現する高度な機能を利用したデバイスの開発や、高スループットのマイクロ・ナノパターン形成技術の開発を推進しています。