12
Vol.5, No.2
August 2006
page 97
研究報告（Research Papers）
イオン注入によるアモルファスシリコンの回復速度の温度依存性評価
Evaluation of the temperature dependency of the reordering rate of implanted amorphous Si
計量標準報告 Vol.5 No.2
13
Vol.5, No.2
August 2006
page 105
技術資料（Technical Note）
高周波雑音標準の不確かさ評価
Uncertainty analysis of radio-frequency noise standard
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Vol.5, No.2
August 2006
page 111
技術資料（Technical Note）
高周波・マイクロ波減衰量標準用の電圧比装置
中間周波減衰量校正装置の管理用標準器
Voltage ratio system constructed for RF attenuation standard
Working standard for control of attenuation calibrator
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Vol.5, No.2
August 2006
page 125
技術資料（Technical Note）
通信帯光周波数の校正法とその不確かさ
Calibration method of "Optical Frequency in Telecom Region" and its uncertainty
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Vol.5, No.2
August 2006
page 131
技術資料（Technical Note）
532nm ヨウ素安定化 Nd:YAG レーザの不確かさとその校正法
Uncertainties and calibration method of 532-nm iodine-stabilized Nd:YAG lasers