ナノ棟CMOS研究施設
ナノ棟CMOS試作設備は、CMOS試作に必要な全ての装置を、効率的に集約し、共同研究施設として活用しています。
CMOS試作ラインを含む旧部門パンフレットはこちらからダウンロードください。
設備概要(ナノ棟CMOS試作設備 150m2 2室)


写真1 g線露光機
写真2 電子顕微鏡(SEM)
写真3 金属成膜装置
写真4 ポリSi CVD
写真5 RIE
CMOS試作工程:フィン型トランジスタを一例に

アクセス

国立研究開発法人 産業技術総合研究所 デバイス技術研究部門
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第2
電話:029-861-3483 Eメール:![]()

