ナノ棟CMOS研究施設
![ナノ棟設備](image/CMOS_line.jpg)
ナノ棟CMOS試作設備は、CMOS試作に必要な全ての装置を、効率的に集約し、共同研究施設として活用しています。
CMOS試作ラインを含む旧部門パンフレットはこちらからダウンロードください。
設備概要(ナノ棟CMOS試作設備 150m2 2室)
![CMOS_room1](../../common_img/facilities/CMOS_facilities1.jpg)
![CMOS_room2](../../common_img/facilities/CMOS_facilities2.jpg)
![](../../common_img/facilities/CMOSp1_g.jpg)
写真1 g線露光機
![](../../common_img/facilities/CMOSp2_SEM.jpg)
写真2 電子顕微鏡(SEM)
![](../../common_img/facilities/CMOSp3_CAST.jpg)
写真3 金属成膜装置
![](../../common_img/facilities/CMOSp4_CVD.jpg)
写真4 ポリSi CVD
![](../../common_img/facilities/CMOSp5_RIE.jpg)
写真5 RIE
![CMOS_list](../../common_img/facilities/CMOS_list.jpg)
CMOS試作工程:フィン型トランジスタを一例に
![CMOS_room](image/process.jpg)
アクセス
![CMOS_map](image/map.jpg)
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 デバイス技術研究部門
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第2
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