特徴的な装置・評価方法

本ラボでは、STEM装置で界面の微細構造や元素分布を高精度に観察しています。和周波（SFG）装置は界面分子の配向を非破壊で測定し、接着反応を分子レベルで解析します。応力発光技術は動的なひずみ分布を可視化でき、国際標準化されています。準大気圧X線光電子分光（NAPXPS）装置は実環境で起こる固体表面の化学状態変化や液体試料のXPS計測が可能です。

STEM装置

STEM装置は、ナノメートルスケールで材料内部の構造や組成を解析できる高分解能電子顕微鏡です。走査透過観察により、接着界面や薄膜材料の原子配列、析出物、欠陥構造を詳細に可視化できます。また、エネルギー分散型X線分析（EDS）と組み合わせることで、元素分布を定量的に評価し、界面反応や材料劣化のメカニズム解明に活用しています。

POINT01: 原子レベルで微細構造観察

POINT02: 元素分布を高分解能で解析

POINT03: 欠陥や析出物を詳細に把握

POINT04: 界面反応の機構解明に活用

和周波分析（SFG）装置

和周波発生分光（Sum Frequency Generation, SFG）分析装置は、固体表面や界面に特有の分子配向や化学構造を非破壊で観察できる高感度光学装置です。赤外光と可視光を同時に照射して得られる和周波信号を解析し、表面分子の配列状態や官能基の変化を検出します。本装置を用いることで、接着や界面反応の初期過程を分子レベルで理解することが可能です。

POINT01: 表面分子配向を非破壊観察

POINT02: 官能基の変化を高感度検出

POINT03: 界面化学反応を分子レベルで把握

POINT04: 薄膜や接着界面評価に最適

応力発光技術

応力発光とは、特殊な塗料・シートを貼る事で、動的なひずみ分布を可視化する技術です。これを利用して、破壊起点や接着不良の検出を可能にしました。また、破壊じん性（G1c, C2c）を求めるDCBやDNF試験での正確なき裂進展追跡を可能にし、国際標準化されたことで、世界中で使用されるようになりました。

POINT01: 動的ひずみ分布を可視化

POINT02: 破壊起点、接着不良などの検知に有効

POINT03: シミュレーション高度化に実績

POINT04: き裂伝ぱ追跡の自動化を可能に

準大気圧X線光電子
分光(NAPXPS)装置

準大気圧X線光電子分光(Near-ambient pressure X-ray photoelectron spectroscopy, NAPXPS)装置は,通常のXPS装置では測定できない,準大気圧圧力環境下におかれた試料表面のXPS計測が可能な装置です。X線を試料表面に照射することで放出された光電子を検出器で検出することで、各元素の化学状態を調べることができます。準大気圧でのXPS測定が行えることで、実環境で起こる固体表面の化学状態変化や液体試料のXPS計測が可能です。