鈴木健太主任研究員がMNC 2024でOutstanding Paper Awardを受賞しました。
タイトル
Electrical evaluation of copper damascene interconnects based on nanoimprint lithography compared with ArF immersion lithography for back-end-of-line process
概要
本研究では次世代リソグラフィの候補と言われるナノインプリントリソグラフィ(NIL)を用いてCuダマシン配線加工の評価を行いました。Cu配線の電気・形状評価から、配線幅60nmから78nmまで2nm刻みで正確に配線形状が作製できたことを確認し、NILのすぐれた線幅制御性を明らかにしました。 発表:36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023) 論文:Jpn. J. Appl. Phys. 63 03SP41, DOI 10.35848/1347-4065/ad2416