2025.11.13
深沢 正永 総括研究主幹、⼊沢 寿史 チーム長、太田 裕之 チーム長、林 喜宏 招聘研究員、昌原 明植 センター長がDPS2025国際学会でDPS2024 Presentation AwardとDPS Papar Awardを受賞しました
- タイトル
- High selective atomic layer etching in combination with area-selective deposition for atomic-scale process design
- The 46th International Symposium on Dry Process
-
2025.03.27
下方 駿佑 リサーチアシスタントが電子情報通信学会シリコン材料・デバイス（SDM）研究会で若手優秀発表賞を受賞しました
- タイトル
- 極低温下ホットキャリア注入によるしきい値電圧異常増大の理解
- シリコン材料・デバイス（SDM）研究会
2025.01.24
小林 唯華 リサーチアシスタントが第30回 電子デバイス界面テクノロジー研究会で若手奨励賞を受賞しました
- タイトル
- MOSFET極低温動作におけるバンド端準位の影響：mK帯SS温度依存性の定量的理論検討
- 電子デバイス界面テクノロジー研究会
-
2024.11.19
鈴木健太主任研究員がMNC 2024でOutstanding Paper Awardを受賞しました。
- タイトル
- Electrical evaluation of copper damascene interconnects based on nanoimprint lithography compared with ArF immersion lithography for back-end-of-line process
- 概要
- 本研究では次世代リソグラフィの候補と言われるナノインプリントリソグラフィ(NIL)を用いてCuダマシン配線加工の評価を行いました。Cu配線の電気・形状評価から、配線幅60nmから78nmまで2nm刻みで正確に配線形状が作製できたことを確認し、NILのすぐれた線幅制御性を明らかにしました。
発表：36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)
論文：Jpn. J. Appl. Phys. 63 03SP41, DOI 10.35848/1347-4065/ad2416 -
