Dataset

半導体材料のCO2排出原単位データセット

半導体製造に用いられるガスや薬液は、高純度化プロセスを経て製造されています。しかし、既存のインベントリデータベースでは、半導体材料の高純度化に伴う環境負荷を十分に考慮できていない場合があります。また、半導体製造で使用される特殊ガスについては、CO2排出原単位データそのものが存在しないケースも少なくありません。私たちは、高純度化プロセスを考慮して高純度ガスや薬液のCO2排出原単位を評価しています。これまでに、30種類以上のデータを整備しており、半導体材料の環境負荷評価やホットスポット分析に活用できます。

Material name Abbreviation Category Our project
1-Methoxypropan-2-olPGMEChemical solution●
2-propanolIPAChemical solution●
Acetic acidCH3COOHChemical solution●
Ammonium fluorideNH4FChemical solution●
Ammonium hydroxideNH4OHChemical solution●
Hydrochloric AcidHClChemical solution●
Hydrogen fluorideHFChemical solution●
Hydrogen peroxideH2O2Chemical solution●
Nitric acidHNO3Chemical solution●
Phosphoric acidH2PO4Chemical solution＊
Propylene Glycol 1-Monomethyl Ether 2-AcetatePGMEAChemical solution●
Sulfuric acidH2SO4Chemical solution●
AmmoniaNH3Gas＊
Carbonyl difluorideCOF2Gas●
ChlorosilaneSiH3ClGas●
ChlorotrifluorideClF3Gas●
DichlorosilaneSiH2Cl2Gas●
Dinitrogen oxideN2OGas●
FluorineF2Gas●
GermaneGeH4Gas●
Hydrogen bromideHBrGas●
Molybdenum dioxide dichlorideMoO2Cl2Gas●
Molybdenum(VI) fluoride, Molybdenum hexafluorideMoF6Gas●
Nitrogen trifluorideNF3Gas●
SilaneSiH4Gas●
Silicon Tetrachloride, TetrachlorosilaneSiCl4Gas●
TetraethoxysilaneTEOSGas●
TetrafluoromethaneCF4Gas●
TrichlorosilaneSiHCl3Gas●
TrifluoromethaneCHF3Gas●
Tungsten HexafluorideWF6Gas●
ArgonAr (ℓ)Gas●
NitrogenN2 (ℓ)Gas●
OxygenO2 (ℓ)Gas●
Wafer (300 mmφ silicon)WaferWafer●

＊ : under construction
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