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研究概要Research

研究概要

当研究グループでは、塗布プロセスに適合する電子材料の開発、および、これら材料の特質に立脚した革新的プロセス技術や高度な計測・評価技術の開発に取り組んでいるほか、材料機能の高付加価値化(高生体親和性、抗菌・抗ウイルス性等)に向けた開発や、開発加速のためのマテリアルズインフォマティクス・プロセスインフォマティクス活用基盤の構築に取り組んでいます。


重点課題

• 有機半導体、有機強誘電体、二次元層状材料、金属微粒子、光機能性分子の新機能開拓と塗布プロセス適応化

• 塗布型電子デバイスの高性能化・性能平準化・高耐久化を可能とする先進塗布プロセスの開発と多様な材料への汎用化

• 塗布型電子デバイスの高品質化に資する先端デバイス評価技術の開発、およびこれを応用した高度な生体物質計測技術の開発

  


保有技術

 - 有機合成技術
 - 真空製膜技術
 - 塗布製膜技術(インクジェット、ブレードコート、スピンコート)
 - 熱分析技術
 - X線構造解析技術
 - 電気特性評価技術(トランジスタ特性、インピーダンス測定、強誘電分極特性)
 - 電気化学測定技術
 - 顕微分光測定技術(紫外、可視、赤外、ラマン)
 - 蛍光分光測定技術
 - 変調イメージング技術
 - 走査プローブ顕微鏡測定技術


バナースペース

国立研究開発法人

産業技術総合研究所

電子光基礎技術研究部門

メゾスコピック材料グループ

〒305-8565
つくば市東1-1-1 産総研つくば中央5事業所