2026年6月8日(月) 15:00-17:00
14:30
開場
15:00 - 15:20
会長挨拶・趣旨説明
井谷 俊郎 産業技術総合研究所先端半導体研究センター首席研究員
15:20 - 16:40
装置メーカーからのプレゼンテーション
15:20
早川 崇 様 東京エレクトロン株式会社 コーポレートイノベーション本部 GM
15:40
廣瀬 嶺央 様 レーザーテック株式会社 第１ソリューションセールス部
16:00
酢谷 拓路 様 株式会社日立ハイテク ナノテクノロジーソリューション事業統括本部 評価システム営業本部部長代理
備藤 七生 様 株式会社日立ハイテク コアテクノロジー&ソリューション事業統括本部 事業戦略本部部長代理
16:20
Sven Krannich 様 Carl Zeiss SMT GmbH Product Marketing Manager AIMS EUV
16:40 - 17:00
EUV施設の概要とアンケートについて
藤巻 真 株式会社AIST Solutionsプロデュース事業本部 副本部長
ご入会者：企業：34社、アカデミア：8名
参加人数：140名(現地 104名、Web 36名)
事務局先端リソグラフィ将来ビジョン協議会
（国立研究開発法人 産業技術総合研究所 エレクトロニクス・製造領域 先端半導体研究センター内）
E-mailM-aist-litho-kyougikai-jimu-ml at aist.go.jp（送信時はatを@に置き換えてください）