組織運営Organization
- 総会
- 総会を年１回開催（予定）
- 運営委員会
- 会長・副会長・幹事とも産総研グループで構成
- 会長
- 井谷 俊郎（先端半導体研究センター）
- 副会長
- 藤巻 真（株式会社AIST Solutions）
- 幹事
- Santillan Julius（先端半導体研究センター）、今井 基勝（株式会社AIST Solutions）、渡邉 修治（エレクトロニクス・製造領域）
- 事務局
- 産総研 先端半導体研究センター内に設置
本協議会は、先端リソグラフィの将来ビジョンを示し、産総研の先端リソグラフィ施設の在り方を産業界とともに検討するため、2026年4月に設置されました。
本施設では、最新鋭のHigh-NA EUV露光装置と周辺装置を整備し、つくばセンター西事業所のスーパークリーンルーム（SCR）にある300mmパイロットラインと一体的に運用することで、先端リソグラフィ研究開発を支える基盤を構築します。
本施設は、装置・部素材メーカーやデバイスメーカーの活用の場となるとともに、産総研による研究・人材育成の基盤として機能し、我が国のEUV露光関連技術の国際競争力の維持・強化に貢献します。
本協議会は、法人会員及びアカデミー会員（個人会員）の参画のもと、総会や分科会等を通じて議論を深め、上記事業を推進します。
会員相互の交流、スキル向上のため定期的に講演会を開催します。
2026年6月8日 15:00-17:00
14:30
開場
15:00 - 15:20
会長挨拶・趣旨説明
井谷 俊郎 産業技術総合研究所先端半導体研究センター首席研究員
15:20 - 16:40
装置メーカーからのプレゼンテーション
15:20
早川 崇 様 東京エレクトロン株式会社 コーポレートイノベーション本部 GM
15:40
廣瀬 嶺央 様 レーザーテック株式会社 第１ソリューションセールス部
16:00
酢谷 拓路 様 株式会社日立ハイテク ナノテクノロジーソリューション事業統括本部 評価システム営業本部部長代理
備藤 七生 様 株式会社日立ハイテク コアテクノロジー&ソリューション事業統括本部 事業戦略本部部長代理
16:20
Sven Krannich 様 Carl Zeiss SMT GmbH Product Marketing Manager AIMS EUV
16:40 - 17:00
EUV施設の概要とアンケートについて
藤巻 真 株式会社AIST Solutionsプロデュース事業本部 副本部長
ご入会者：企業：34社、アカデミア：6大学
参加人数：140名(現地 104名、Web 36名)
先端リソグラフィ将来ビジョン協議会へ入会を希望される法人又は個人の皆様は入会申込書と居住性等に関する確認書に必要事項をご記入の上、下記事務局までご提出下さい。(審査あり)
本協議会では独占禁止法をはじめとする関連法令の遵守を表明し、次の通り宣言いたします。独占禁止法遵守宣言をご確認ください。
| 会員区分 | 対象 | 年会費(税込) |
|---|---|---|
| 法人会員 | 法人又は団体 | 10 万円 |
| アカデミー会員 | 個人（大学又は公的法人） | 無 |
事務局先端リソグラフィ将来ビジョン協議会
（国立研究開発法人 産業技術総合研究所 エレクトロニクス・製造領域 先端半導体研究センター内）
E-mailM-aist-litho-kyougikai-jimu-ml at aist.go.jp（送信時はatを@に置き換えてください）