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産総研 共用施設

産総研では、これまで蓄積して来たノウハウ・成果を広く社会に普及させることを目的に、幅広い分野の先端機器をノウハウ等とともに共用施設として社会に公開しております。

これらの共用施設をご利用頂くための制度が「共用施設等利用制度」です。


<共用施設等利用制度の特徴>
  • 約款に基づく利用申込手続きのため、契約手続きが明確です。
  • 発生した知的財産権は原則として利用者に帰属します。
  • 約款内で明瞭な秘密情報管理のルールを定めております。
  • 単価表で時間(枚数)当たり価格が公開されているため、コストの見通しが立て易くなっております。

公開している共用施設のプラットフォーム

2017年4月現在、7つのプラットフォームで300台程度の装置を公開しております。

先端ナノ計測施設(ANCF)  (装置一覧)

既存の計測装置の限界を克服する次世代計測機器の開発、次世代計測手法の開発、及び解析ソフトウェアやデータベースなどの知識体系化を行っています。 さらに、これらの最先端計測機器とノウハウを広く公開するとともに、ISO-IEC標準化による使い勝手の向上によって、ナノテクノロジー等におけるイノベーション創出を推進しております。

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY)  (装置一覧)

超伝導デバイス開発を牽引してきた産総研と国際超電導産業技術研究センターの有するデバイス作製機器とノウハウを集約し、超伝導アナログ/デジタル技術の両方をカバーした世界トップレベルの研究開発施設です。 CRAVITYを研究者が自ら利用、またはプロセスを依頼代行することで、超伝導アナログ/デジタルデバイスを作製することができます。

蓄電池基盤プラットフォーム(BRP)  (装置一覧)

次世代蓄電池の研究開発を支援するため、最先端装置群をアンダーワンルーフに設置し、共用インフラとして全国の研究者に提供することを目的としているプラットフォームです。

ナノプロセシング施設(NPF)  (装置一覧)

電子線を用いる微細構造描画装置、走査電子顕微鏡・走査型プローブ顕微鏡などの計測装置及びナノデバイスや材料の電子・光機能評価装置を有し、オリジナルな着想をいち早く具現化すべく、日々先端的な材料・デバイスの微細加工から機能検証までを一貫して推進しています。

●先端バイオ計測施設(BIO)  (リーフレット参照)

スーパークリーンルーム産学官連携研究棟(SCR) (装置一覧)

3,000m2のクラス3クリーンルームに、300mmウエハ用半導体プロセス装置を揃えています。既存のプロセスメニューを活用した研究開発や個々のプロセスや単独処理などを行うことができます。

MEMS研究開発拠点(MEMS) (装置一覧) (装置紹介)

200/300mm(8/12インチ)ウェハのMEMSプロセスラインと集積化・評価設備を揃え、MEMSファンドリーサービスを提供しています。

ご利用の手続き

産総研の規程・約款()に基づき、ご利用いただきます。

  • ご利用いただける機器・装置のリストは、約款の別紙1に記載しております
  • お申し込みの前に事前相談を行います。
  • 基本単価、ご利用方法、事前相談のご連絡先などの詳細は、上記の各プラットフォームのページをご覧ください。
  • 産総研研究者による、役務提供技術指導技術代行も可能です(装置毎に提供できるサービスは異なります)。

)産総研の規程・約款

国立研究開発法人産業技術総合研究所共用施設等の利用に関する規程(PDF形式: 19 KB)

国立研究開発法人産業技術総合研究所共用施設等利用約款(PDF形式: 712 KB)(2018年10月1日一部改正)

)利用申込書

共用施設等利用申込書(WORD形式: 35 KB)


共用施設ご利用までの流れ

FAQ


パンフレット

 

共用施設等利用制度のパンフレットに施設の詳細等を記載しております。是非こちらもご参照ください。

共用施設等利用制度パンフレット(PDF形式: 8460 KB)

ナノプロセシング施設(NPF)パンフレット(PDF形式: 4937 KB)

  

単価表

 

お問い合わせ

国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター  共用施設運営ユニット  共用施設ステーション

〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210        FAX:029-861-3211         Eメール:tia-kyoyo-ml