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産総研 共用施設

産総研では、これまで蓄積して来たノウハウ・成果を広く社会に普及させることを目的に、幅広い分野の先端機器をノウハウ等とともに共用施設として社会に公開しております。

これらの共用施設をご利用頂くための制度が「共用施設等利用制度」で、以下の特徴があります。

  • 約款に基づく利用申込手続きのため、契約手続きが明確です。
  • 発生した知的財産権は原則として利用者に帰属します。
  • 約款内で明瞭な秘密情報管理のルールを定めております。
  • 単価表で時間(枚数)当たり価格が公開されているため、コストの見通しが立て易くなっております。

共用施設のコロナ対応状況について

先端ナノ計測施設(ANCF)
非常事態宣言の解除に伴い、制限が緩和されてきておりますが、感染リスク低減の観点から、原則としてメール等による事前相談と技術代行による支援のみを実施させて頂いております。詳細等については、各装置担当者またはANCF事務局にお問い合わせ下さい。(2020.6.10)
URL:https://unit.aist.go.jp/rima/nanotech/index.html
超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY)
CRAVITYでは、クリーンルーム内の最大滞在人数の制限のため、外部の方の施設利用を停止し、代行のみの実施に切り替えております。
ナノプロセシング施設(NPF)
面談による技術相談、安全ガイダンス、装置トレーニング、技術補助は人数を制限して再開する。技術代行、機器利用は順次再開している。
URL:https://ssl.open-innovation.jp/npf/news/detail/160/2020-05-19+00%3A00%3A00
蓄電池基盤プラットフォーム(BRP)
@ 設備の供用は、基本的に従来通り。
A これまでと同様、測定代行や技術補助は行わない。
 (予約者本人による装置利用のみ。)
B 新規テーマ受け付け後に行う技術相談は、原則として実施しない。
 (新規テーマを申請された方はすぐに利用開始できません。)
  急を要する場合は、相談の上、充分な感染防止対策を行った上で対応。
C 装置やPC(キーボード、マウス等)に手を触れる前後には、充分な手指の消毒をお願いする。
スーパークリーンルーム産学官連携研究棟(SCR)
内部・外部の方の来訪利用を再開しておりますが、入室安全教育、装置オペトレは人数制限等接触防止対策を実施しています。また、技術相談はWeb会議を中心に対応しています。
MEMS研究開発拠点(MEMS)
MEMS施設では、感染拡大防止の観点から利用を制限させていただく場合がございますので、予約時にご確認ください。その他詳細についてはMEMS施設担当までお問合せください。
先端バイオ計測施設(BIO)
当面支援依頼はお断りしております。

ご利用に関する注意事項(規程及び約款)

産総研では、次の「国立研究開発法人産業技術総合研究所共用施設等の利用に関する規程」及び「共用施設等利用約款」に基づき共用施設をご利用いただいております。

◆ 2020年4月1日 規程・約款が改正されました。

約款改正のポイント

  • 利用の受入要件を見直し(第3条第2項)。利用希望者が反社会的勢力等と関係を有していないこと,利用希望者及び利用目的に関して安全保障輸出管理上及び情報管理上の懸念がないこと,利用が我が国の産業競争力を損なうおそれがないこと等を新たな要件とした。
  • 事故処理に関する規定を追加(第11条)。共用施設等の利用中に事故,緊急事態等が発生した場合に,直ちに研究所に通報し,その指示に従わなければならない旨を規定。
  • 利用契約の有効期間を見直し(第14条)。回答書に記載した利用の期間に限り有効とし,利用期間終了後も有効となる条項を列記。
  • 契約上の地位,契約に基づく権利義務の譲渡の禁止に関する規定を追加(第18条)。研究所の事前の書面による同意なく、契約上の地位又は契約に基づく権利義務を譲渡等することを禁止。これに違反し研究所に費用負担又は損害が生じた場合,合理的な弁護士費用を含む費用を支払い損害を賠償する義務を利用者が負う旨を規定。
  • 約款の変更に関する規定を追加(第19条)。約款の変更に関する定めを明記し,約款を変更する際に,変更する旨,変更後の約款の内容,効力発生時期等についてウェブページに掲載することを規定。
  • 共用施設等の追加,削除(別表第1)。
  • その他,規定の明確化を図るため全般的な文言等の見直しを行った。

規程・約款の改正版は下記のリンクからダウンロードしてください。

国立研究開発法人産業技術総合研究所共用施設等の利用に関する規程(PDF形式:82 KB)(2020年4月1日施行)

国立研究開発法人産業技術総合研究所共用施設等利用約款(PDF形式:780 KB)(2020年4月1日施行)

※約款内に共用施設でご利用いただける装置の一覧が掲載されておりますので、ご参照ください。


公開している共用施設のプラットフォーム

2019年10月現在、7つのプラットフォームで300台程度の装置を公開しております。
先端ナノ計測施設(ANCF) 施設のページ 装置一覧 単価表
既存の計測装置の限界を克服する次世代計測機器の開発、次世代計測手法の開発、及び解析ソフトウェアやデータベースなどの知識体系化を行っています。 さらに、これらの最先端計測機器とノウハウを広く公開するとともに、ISO-IEC標準化による使い勝手の向上によって、ナノテクノロジー等におけるイノベーション創出を推進しております。
超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) 施設のページ 装置一覧 単価表
超伝導デバイス開発を牽引してきた産総研と国際超電導産業技術研究センターの有するデバイス作製機器とノウハウを集約し、超伝導アナログ/デジタル技術の両方をカバーした世界トップレベルの研究開発施設です。 CRAVITYを研究者が自ら利用、またはプロセスを依頼代行することで、超伝導アナログ/デジタルデバイスを作製することができます。
蓄電池基盤プラットフォーム(BRP) 施設のページ 装置一覧 単価表
次世代蓄電池の研究開発を支援するため、最先端装置群をアンダーワンルーフに設置し、共用インフラとして全国の研究者に提供することを目的としているプラットフォームです。
ナノプロセシング施設(NPF) 施設のページ 装置一覧 単価表
電子線を用いる微細構造描画装置、走査電子顕微鏡・走査型プローブ顕微鏡などの計測装置及びナノデバイスや材料の電子・光機能評価装置を有し、オリジナルな着想をいち早く具現化すべく、日々先端的な材料・デバイスの微細加工から機能検証までを一貫して推進しています。
先端バイオ計測施設(BIO) 施設のページ 装置一覧 単価表
糖鎖、植物転写因子を解析するための先端機器を提供し、各種生体試料の解析を支援しています。
スーパークリーンルーム産学官連携研究棟(SCR) 施設のページ 装置一覧 単価表
3,000m2のクラス3クリーンルームに、300mmウエハ用半導体プロセス装置を揃えています。既存のプロセスメニューを活用した研究開発や個々のプロセスや単独処理などを行うことができます。
MEMS研究開発拠点(MEMS) 施設のページ 装置一覧 単価表
200/300mm(8/12インチ)ウェハのMEMSプロセスラインと集積化・評価設備を揃え、MEMSファンドリーサービスを提供しています。

ご利用の手続き


パンフレット

共用施設等利用制度のパンフレットに施設の詳細等を記載しております。是非こちらもご参照ください。

共用施設等利用制度パンフレット(PDF形式: 4653 KB)

ナノプロセシング施設(NPF)パンフレット(PDF形式: 3270 KB)

単価表

お問い合わせ

国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター  共用施設運営ユニット  共用施設ステーション

〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210        FAX:029-861-3211         Eメール:tia-kyoyo-ml