低ガス圧力で高プラズマ密度を実現できる磁化プラズマの一種であるヘリコンプラズマは、宇宙推進分野での応用が知られていますが、 磁場形状をそれぞれのプロセスに適した形状に制御することで、これまで実現できなかったものづくりプロセスにも応用できると考えています。 この考えのもと産総研では、試作機を用いて様々なプロセスへの適用可能性を検証する研究を行っています。 最近ではヘリコンプラズマを用いたスパッタリング成膜による、新しいセンサ材料となる薄膜の作製技術について研究を行っています。

・液体ガリウムターゲットを用いたスパッタリング成膜によるGaN(0002)配向膜の実現
・Feターゲットを用いたスパッタリング成膜（成膜速度 25 nm/min）の実現

高周波プラズマ装置技術、高密度プラズマ照射実験 など

1） T. Motomura and T. Tabaru, J. Plasma Fusion Res., 96, 695 (2020), and reference therein.
2） T. Motomura, T. Tabaru and M. Uehara, J. Vac. Sci. Technol. A 40, 053001 (2022);
3） I. Misono, T. Motomura et al., J. Vac. Sci. Technol. A 42, 053005 (2024);