非破壊かつ実環境下での直接分析を実現する技術

ー 非線形分光を利用した電界分布イメージング技術の開発 ー

研究のねらい

摩擦や剥離などにより生じる『静電気』は、電子デバイスの破壊や製品に対する埃などの異物付着を引き起こす要因となっています。 十分な対策を施すためには、静電気の発生過程やその分布、除電器による除電効果などについての詳細なデータの蓄積が必要不可欠です。 本研究では、静電気の発生から除電までの連続的な評価や静電気の発生によって生じる表面での局所的な電界分布評価に向けて、 非線形分光計測をベースとした電界分布イメージング技術を開発します。 さらに、分子レベルで帯電機構を検討し静電気の本質の理解を目指します。

主な成果

製膜条件を変えることで高分子膜の表面分子配向や表面抵抗率、残留溶媒量などのパラメータを変えることができます。
これらのパラメータと高分子膜の帯電特性との間に相関性があることを明らかにしました。
これは製膜方法による膜質の最適化によって高分子膜の帯電制御が可能であることを示唆するものであり、新しい帯電制御技術の開発につながる成果です。

帯電・除電過程の連続評価技術の概要

用途・展開先

帯電制御技術の開発、除電効果の検証、トライボエレクトリック発電デバイスの開発

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