イベント詳細

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第2回産総研次世代コンピューティング基盤開発拠点シンポジウム

概要

日時

～

場所

オンライン（ZOOM）

申し込み

7月26日（火）までに申し込みフォームよりお申し込みください。

終了しました

主旨

産総研エレクトロニクス・製造領域およびTIA推進センターは、2021年に「次世代コンピューティング基盤開発拠点」活動をスタートしました。本拠点では、次世代コンピューティング基盤にかかわる戦略策定、研究開発推進、オープンイノベーションプラットフォームとしての試作評価拠点整備を進めています。
2021年3月より国内有識者による次世代コンピューティング基盤戦略会議を開催し、我が国のとるべき戦略の検討を進めてまいりました。その検討に基づき2022年6月には次世代コンピューティング基盤戦略（第一版）を策定、公開しました。
また、オープンイノベーションプラットフォームとして、NEDOポスト5Gプロジェクトや「重点産業技術に係るオープンイノベーション拠点整備」事業を活用して、スーパークリーンルーム（SCR）における最先端半導体製造ラインや、概念実証（PoC: Proof of Concept）ファブを構成する超伝導量子回路試作施設（Qufab）および未踏デバイス試作共用ライン（COLOMODE）の整備を進めてまいりました。
シンポジウムでは上記戦略とオープンイノベーションプラットフォームの整備状況等を紹介いたします。

プログラム

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開会挨拶：村山 宣光（産総研 副理事長）

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来賓挨拶：田中 哲也（経産省 産業技術環境局 審議官）

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シンポジウムの主旨・拠点活動紹介：安田 哲二（産総研 エレクトロニクス・製造領域長）

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プレナリー講演「AIーコンピューティングー集積回路：技術変革のうねりとその未来」

本村 真人（東京工業大学科学技術創成研究院教授）

１．次世代コンピューティング基盤戦略

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戦略策定とその展開：益 一哉（東京工業大学 学長 戦略会議共同座長）

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背景、検討体制と戦略概要：森 雅彦（産総研 エレクトロニクス・製造領域 領域長補佐）

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戦略目標１：実世界エッジコンピューティングの総合的な強化：内山 邦男（産総研 AIチップ設計拠点長）

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戦略目標２：超分散コンピューティングに関わるチョークポイント技術の強化：並木 周（産総研 プラットフォームフォトニクス研究センター長）

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質疑応答（チャットで頂いた質問にお答えします）

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休憩

２．グリーン・サステナブル半導体製造技術の体系的構築（戦略目標３）

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戦略と取り組み：中野 隆志（産総研 エレクトロニクス・製造領域 副領域長）

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東京エレクトロンのグリーン戦略（E-COMPASS）：関口 章久（東京エレクトロン株式会社コーポレートイノベーション本部テクノロジー担当GM 兼 アライアンス戦略室 室長）

３．オープンイノベーションプラットフォーム

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超伝導量子回路試作施設（Qufab）：水林 亘（産総研 新原理コンピューティング研究センター 研究チーム長）

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未踏デバイス試作共用ライン（COLOMODE）：森 貴洋（産総研 デバイス技術研究部門 上級主任研究員）

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AIチップ設計拠点（AIDC）：五十嵐 泰史（AIチップデザインオープンイノベーションラボラトリ 副ラボ長）

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スーパークリーンルーム（SCR）-先端半導体製造ラインとPDK整備状況-：林 喜宏（ＴＩＡ推進センター　戦略連携ユニット）

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質疑応答（チャットで頂いた質問にお答えします）

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閉会挨拶：金丸 正剛（産総研 TIA推進センター長）

本件問い合わせ先およびシンポジウム申し込みフォーム

問い合わせ先国立研究開発法人産業技術総合研究所次世代コンピューティング基盤拠点シンポジウム事務局

E-mailM-NGCPP-symposium-ml at aist.go.jp（送信時はatを@に置き換えてください）

終了しました