Nanoscale standards group

産総研
ナノスケール標準研究グループ
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
計量標準総合センター 工学計測標準研究部門

last updated 2019.5
What's New

2019.5.23
「集積光学系内に構築されたヘテロダイン干渉計およびピコメートルオーダの周期誤差の計量評価 (Precision Engineering誌)」、「原子間力顕微鏡における空間寸法:計測器、エフェクト、計測 (Ultramicroscopy誌)」及び「測長原子間力顕微鏡を用いたプロファイル表面粗さ測定の範囲の拡張 (Precision Engineering誌)」が、NMIJ Newsletter(年2回発行)でSelected research reportsの21報のうちの3報に選ばれました。(NMIJ_Newsletter_2019_No9, 12ページ目, レポート1), レポート5)及びレポート20))

2019.5.23
ナノ粒子サイズ測定(VAMAS TWA2 Project)に菅原が参加しました。(NMIJ_Newsletter_2019_No9, 11ページ目)

2019.4.3
測長原子間力顕微鏡を用いたプロファイル表面粗さ測定の範囲の拡張 (Precision Engineering誌)

2018.11.27
シリコンウエハの厚さを非接触で精密測定 (産総研LINK 2018.11 No.21)

2018.11.16
平井が一般社団法人 日本計量史学会より功労賞を受賞しました。「長年にわたる計量史ならびに日本計量史学会の発展への貢献」によるものです。

2018.11.15
傾斜探針機構搭載型測長原子力顕微鏡を用いた線幅校正 (Measurement Science and Technology誌)

2018.11.1
「3Dナノ計測用 傾斜探針型測長原子間力顕微鏡の開発 (Measurement Science and Technology誌)」及び「ブロックゲージ干渉計を用いた低熱膨張係数材料の長期安定性評価 (Measurement Science and Technology誌)」が、NMIJ Newsletter(年2回発行)でSelected research reportsに選ばれました。(NMIJ_Newsletter_2018_No8, 8ページ目)

2018.9.4
シリコンウエハーの厚さを高精度に測定 (産総研プレスリリース)
日刊工業新聞(2018年9月5日、21面・電子版)、OPTRONICS ONLINE、2018年9月5日、電波新聞(2018年9月7日、11面)、鉄鋼新聞(2018年9月7日、5面)で紹介されました。

2018.8.16
原子間力顕微鏡における空間寸法:計測器、エフェクト、計測 (Ultramicroscopy誌)

2018.6.29
三次元ナノ構造の寸法・形状計測技術に関する調査研究(産総研 計量標準報告)

2018.6.15
集積光学系内に構築されたヘテロダイン干渉計およびピコメートルオーダの周期誤差の計量評価 (Precision Engineering誌)

Topics

お問い合わせの多い段差校正について簡単にまとめました。

方式 光学式 AFM方式 触針式
校正範囲 20 nm - 500 nm 10 nm - 2,500 nm 500 nm - 10,000 nm
試料サイズ 25 mm x 25 mm x 7 mm以下 20 mm x 20 mm x 4 mm以下 市販の粗さ標準片と同程度
段差パターン幅 0.03 mm以上、0.1 mm以下 0.033 mm以下 市販の粗さ標準片と同程度
パターン配置 図のとおり 図のとおり 図のとおり
材質 表面の光学定数が同一であるもの シリコン基板、ガラス基板など -
備考 針で試料を破損する可能性あり 針で試料を破損する可能性あり