工学計測標準研究部門

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  • シリコンおよび二酸化シリコンからなる多層膜構造を貼り合わせて作製した一次元回折格子(ピッチ公称値:25 nm, 繰り返し:40周期)の断面透過電子顕微鏡像

  • 傾斜探針型測長AFMによるシリコンラインパターンの3次元形状計測

  • レーザー干渉計モジュールを用いた変位センサ評価装置

  • 顕微干渉計の開口効果を補正して測定された19 nmの段差形状

  • AFMで測定した鏡の三次元表面性状

  • 左:移動ステージおよび干渉計付きSEM、右:SEMで校正されたフォトマスク線幅

ナノメートルサイズの長さ関連量標準の維持供給、範囲拡大、高度化を行っています。私達の校正・測定能力は国際比較、ピアレビューにより国際的に承認されています。また、次世代ナノスケール計測技術の研究開発を行っています。

研究テーマ

  1. 高分解能レーザ干渉計を開発し、高精度な測長原子間力顕微鏡(測長AFM)の実現やリニアエンコーダーや変位計の評価を行っています。

  2. 測長AFM、顕微干渉計、触針式粗さ計を開発し、10 nm~10 μmの広範囲でISO5436-1に準拠した段差の校正を行っています。

  3. 測長原子間力顕微鏡や深紫外レーザ回折計を用いたピッチ校正技術を開発し、一次元・二次元回折格子のピッチ校正を行っています。

  4. SEM(走査型電子顕微鏡)とAFMを組み合わせたナノスケールのフォトマスク線幅校正技術を開発し、校正を行っています。

  5. 傾斜探針AFMを用いたナノスケールのシリコンパターン線幅校正技術を開発し、校正を行っています。

連絡先

グループリーダ:

E-mail: <at> aist.go.jp

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