シリコンおよび二酸化シリコンからなる多層膜構造を貼り合わせて作製した一次元回折格子（ピッチ公称値：25 nm, 繰り返し：40周期）の断面透過電子顕微鏡像

傾斜探針型測長AFMによるシリコンラインパターンの3次元形状計測

レーザー干渉計モジュールを用いた変位センサ評価装置

顕微干渉計の開口効果を補正して測定された19 nmの段差形状

AFMで測定した鏡の三次元表面性状

左：移動ステージおよび干渉計付きSEM、右：SEMで校正されたフォトマスク線幅