| 特許番号 | 第1798132号 |
|---|---|
| 出願番号 | 特願昭61-18997号 |
| 出願日 | 昭和61年(1986)1月29日 |
| 発明者 | 鵜沼 英郎、 鈴木 良和、 吉田 諒一、 前河 桶典 |
| 出願人 | 工業技術院長 |
| 特許権者 | 工業技術院長 |
発明の目的： ゾル-ゲル法の長所を生かすと共にその欠点を克服するために、溶融状態を経ること無く結晶質を含まないことによって、ひび割れ等の無い品質の優れたシリカガラスを経済的に製造する方法を目的としている。
発明の効果： ケイ酸エステルやこれに所望の添加物を加えた混合物を加水分解して得られたゲルの粉末、または無定形シリカ微粉末を原料とし、溶融状態を経ないでシリカガラスを製造することによって、結晶質を含まず且つひび割れのしない品質の優れたシリカガラスを経済的に得ることが出来る。
発明の概要： シリカガラスの製造方法に関するもので、ケイ酸エステル又はケイ酸エステルに金属アルコキシド若しくは金属塩を添加した混合物を加水分解して得られるゲルの微粉末、又は無定形シリカ微粉末を800〜1200℃の温度で仮焼した後、100〜1000気圧の静水圧下において900℃から生成するシリカガラスのガラス転移点までの範囲の温度で焼成することを特徴とする。
図面：