特許番号 | 第1005479号 |
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出願番号 | 特願昭51-107022号 |
出願日 | 昭和51年(1976)9月6日 |
発明者 | 田崎 米四郎、 河端 淳一、 武田 詔平、 加藤 清 |
出願人 | 工業技術院長 |
特許権者 | 工業技術院長 |
発明の目的: 粉上の石炭を空気、水蒸気等を接触させてガス化する石炭の流動ガス化法においては、生成ガスに伴って大部分の灰分とかなりの未反応炭素ガスがガス化炉外に排出される。本発明は、生成ガスが流動層を通過する過程で灰分と未反応炭素を分離して、未反応炭素分をガス化装置に還流させて再度ガス化させ石炭のガス化効率を向上させることを目的とするものである。
発明の効果: 石炭以外のみならず他の粒子の段階的熱処理法への応用が考えられる。
発明の概要: 孔径を制御した多孔水平板による仕切り、多段状に複数個のガス化室を形成した流動層ガス化装置の下段に粉状の石炭を導入し、空気、水蒸気を主とする流動化ガスと接触させてガス化すると共に、ガス化ガスに伴われて流動層を上昇する灰分と未反応石炭を上記多孔水平板によって分級し、下段から灰を抜き出すことを特徴とする多段流動層を用いた石炭のガス化方法。
図面:
1:ガス化炉本体
2a、b、c:多孔水平板
3a、b、c:ガス化室
4:ホッパー
5:通路
6:スクリューフィダー
7:スチーム発生器
8:ブロワー
9:シリコンユニット炉
10:整流室
11:流動化ガス導入口
12:ヒーター
13:ガス取出口
14a、b、c:未燃炭素等固形分取出口
15:未燃炭素等固形分取出口
16:熱電対
17:駆動モーター