高周波バイアススパッタリングによる窒化チタンのコーティング

　コーティング材料は作製条件によってその性状を大きく変える。 従って製作条件が膜の性状（結晶構造、組成等）に及ぼす影響を調べること、また膜の諸性質（機械的、熱的、電気的性質等）とその性状との関連を調べることなどが優れた性質をもつコーティング材料の開発、研究において重要である。
　本研究では反応性高周波スパッタ法により、304ステンレス鋼基板上にTiN膜を作製し、その際に印加するバイアス電圧を変化させバイアス電圧が膜の性状に及ぼす効果を系統的に調べた。 膜の性質は走査型電子顕微鏡（SEM）、オージェ電子分光分析法（AES）、光電子分光分析法（XPS）、X線回析などの方法により測定した。