1,2-シクロヘキサンジオンジオキシムによるニッケル(II)の選択的沈澱分離とけい光X線分折への応用
渡辺寛人/ 上田孝志/ 矢部勝昌
1979年4月 分折化学 28,258-263
1,2-シクロヘキサンジオンジオキシム(ニオキシム)によるμgレベルのニッケル(II)の選択的沈殿分離条件を検討し,ニッケル(II)の沈殿分離けい光X線分析法に応用した。
多量の鉄(III),コバルト(II),銅(II)が共存してもこれらは,酒石酸ナトリウムとCa-EDTAによって完全にマスキングすることができ,pH7.0〜9.5の範囲で数μgのニッケル(II)を定量的に沈殿させ回収できる.
沈殿の完緒に要する時間は15分で,5.00μgのニッケル(II)が最大100mlの溶液から定量的に沈殿する.
この方法を土じょう及びコバルト試薬中のニッケル(II)の分析に応用した.