超高速フォトニクスグループ超短パルスレーザーグループ

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グループの概要

研究の概要

レーザーは10 フェムト秒(1fs=1000 兆分の1 秒)以下に至る極めて短いパルス光を発生でき、 光通信デバイスの開発や光受容過程の解明など、研究や開発用に広く用いられ、技術の進歩に貢献しています。 特に我々は未踏の超短パルス光発生や計測応用について先導的に研究してきました。 これまでに、メディカル応用が期待されているレーザーコンプトン散乱フェムト秒パルスX線の光源開発、 高効率高出力が可能な加工用Yb:YAG超短パルスレーザー開発、理科学研究用の様々な波長での極短パルス発生、 極短パルスの高強度増幅の技術、などについて国内外の様々な企業、大学、研究機関との共同研究・共同開発を行なってきており、 多様な光源技術の蓄積があります。

 現在は、材料やデバイスの高品位微細加工を目指して、レーザープロセスの研究者らと協力して、 熱に弱い薄膜積層材料等の超短パルスレーザー加工技術開発を重点的にすすめているほか、 また、各種モード同期レーザー間のタイミング同期、パルス光波の位相制御と光波合成、等の技術をベースに、 未踏の電界整形光パルス発生(光ファンクションジェネレータ)と超高時間分解の現象計測、分 子構造を広帯域光で制御する技術、レーザープラズマを利用した数密度計測、等を研究しています。

連携可能な技術・知財

・ 波長0.25-1.5 μ m 域の各種フェムト秒パルスレーザーを設計、作製する技術。パルス光の波形・位相を計測評価する技術。パルスのタイミングと光波位相をフェムト秒以下の精度でコントロールする技術。高ピーク強度や高平均出力の超短パルスレーザー。高強度光の応用技術など。

・ Dai Yoshtomi et al, US Patent 7508851, ”Clock Transfer Device”

・ 欠端雅之, 西嶋一樹, 特許第4753063号, ”光電場波形制御方法および制御装置”