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研究グループ一覧


光情報技術

フォトニクスシステムグループ
(グループ長 池田 和浩)
シリコンフォトニクスを始めとする新デバイス技術をユーザ側の視点から研究開発すると共に、これを活用した持続的発展可能な高効率光インターコネクト・ネットワークなどの革新的フォトニクスシステムを実現します。
シリコンフォトニクスをプラットフォームとする大規模光IC技術;シリコンフォトニクスチップへの高性能な表面光接続技術;高度な変復調方式、非線形光信号処理、量子信号処理などの光伝送技術について、デバイスからシステム・ネットワークまで幅広い研究開発活動を展開しています。
光実装グループ
(グループ長 天野 建)
今後、システムの高性能化には光実装技術が益々重要となっています。当グループでは光デバイス同士を光接続する高精度光実装技術、電子機器に光デバイスを集積する光パッケージング技術、評価技術等の研究開発を行い、光技術を実装した高機能機器、高機能システムの社会実装を目指していきます。
シリコンフォトニクスグループ
(グループ長 山田 浩治)
当グループでは、Industrie 4.0やSociety 5.0に代表される高度情報接続社会の実現にむけて、小型集積性、経済性、およびエネルギー効率に優れた次世代光デバイス技術であるシリコンフォトニクス技術の研究を進めています。 具体的には、光導波路、変調器、受光器などの要素デバイス技術とその集積技術からなる基盤的シリコンフォトニクス技術の開発を進めるとともに、異種材料集積技術や高度なデバイス応用技術を背景とした機能性の高いシリコンフォトニクス技術の研究を進めています。さらに、これらの技術の幅広い産業展開をめざして、シリコンフォトニクス製造エコシステムの構築を産官学と連携して推進しています。


光応用技術

先進プラズマプロセスグループ
(グループ長 榊田 創)
先進プラズマプロセス技術の高度制御による革新的な省エネルギー・低環境負荷エレクトロニクスデバイスの開発と成果の社会還元、及び、安心・安全な超高齢化社会実現への貢献を目指しています。
先進レーザープロセスグループ
(グループ長 佐藤 正健)
新しい材料やデバイスの実用化に資する、レーザー光の特徴を生かしたプロセス技術の研究開発を行います。
具体的には、難加工材料のレーザー加工や新たな物質プロセス、条件を効率的に設定できるレーザー加工システム、レーザープロセスに基づく迅速検査技術などの技術を開発します。
分子集積デバイスグループ
(グループ長 則包 恭央)
分子集積デバイスグループでは、有機化合物を中心とした、革新的な材料・プロセス・デバイス技術の開発によって、産業界のニーズに応えることを目指しています。
分子や微粒子などの自己組織化、光などの外部刺激に応答して物性(相、光学特性、表面特性、動的挙動など)が変化する材料、光を利用したプロセス技術(パターニング、接着)などの開発を行っています。


新原理エレクトロニクス

光半導体デバイスグループ
(グループ長 高田 徳幸)
高度な結晶成長技術、微細構造設計技術を駆使して、高度情報化社会、低環境負荷社会の実現に貢献しうる化合物・有機半導体先端光デバイスの開発を行います。
現在、高効率・高指向性LED、緑~黄色半導体レーザー、有機半導体レーザー、高速不揮発メモリ、高出力・高速スイッチング回路、赤外線センサーなどの開発及びデバイス性能の更なる向上を目指し、評価基盤技術の開発を進めています。
超伝導エレクトロニクスグループ
(グループ長 吉田 良行)
革新的イノベーションに向けて、新奇超伝導材料の物質開発、理論・実験両面からのアプローチによる高温超伝導機構解明、およびそれらの知見に基づく応用技術の開発を推進し、超伝導研究におけるフロンティアの開拓に取り組んでいます。
酸化物デバイスグループ
(グループ長 相浦 義弘)
革新的新機能デバイスの創出の契機となるような金属酸化物の材料開発、機能発現機構の解明、物性制御手法の探索、試作機の開発/評価に取り組んでいます。
強相関エレクトロニクスグループ
(グループ長 伊藤 利充)
新しい電子デバイス動作原理である強相関電子系の電子相制御技術の開発と、それに基づく不揮発性メモリや低消費電力スイッチなど低環境負荷の革新的デバイス技術の開発を行います。