本文へ

English

 

契約職員募集 つくばセンター エレクトロニクス・製造領域

領域  : エレクトロニクス・製造領域
募集区分  : 第二号職員
勤務地  : つくばセンター
件数  : 6

※ 本募集内容に関するご質問は、それぞれの問い合わせ先の担当者までお願いします。
募集番号をクリックしてください。

先端半導体研究センター

更新日 公募No 募集担当 募集人員 業務内容
2025/10/30 2025-sfrc_0008 300mmプロセシングプラットフォーム研究チーム
太田 裕之
若干名 産総研つくば西事業所のスーパークリーンルーム(SCR)を含む先端半導体研究センターの施設で行われる半導体研究開発の支援業務を行う。具体的には以下の業務の何れか一つ又は複数を行う: ①上記施設に設置される装置の保守管理、➁各種プロセス装置を用いた半導体プロセス開発及び/又は試作、➂ウェハ加工或いはデバイス試作における工程作成及び工程管理、④上記施設を用いた試作サービスにおける試作依頼受入れ、工程作成・管理、➄上記施設の利用に向けた施設管理部署との調整業務、施設整備・環境負荷低減・施設高度化・安全管理に関する支援業務。⑥SCR内部あるいはそれを利用した研究開発プロジェクトの運営管理に関わる支援、庶務業務。

光電融合研究センター

更新日 公募No 募集担当 募集人員 業務内容
2026/1/19 2026-peirc_0001 光電子集積デバイス研究チーム
高 磊
若干名 光電融合研究センターで行われる光デバイスの集積加工プロセスや実装,シリコンフォトニクス研究開発の補助業務を行う。

製造基盤技術研究部門

更新日 公募No 募集担当 募集人員 業務内容
2026/1/30 2026-cmt-ri_0003 コーティング・界面制御研究グループ
篠田 健太郎
1名 超高温セラミックスのコーティング技術に関する研究補助業務

ハイブリッド機能集積研究部門

更新日 公募No 募集担当 募集人員 業務内容
2026/1/30 2026-hyfi-ri_0002 新世代高集積メモリデバイス研究グループ
落合隆夫
1 ・クリーンルームにおいて半導体微細加工プロセスを用いた研究試料作製実験の補助を行う。
・一般実験室において、電磁気特性測定実験の補助を行う。
2026/2/2 2026-hyfi-ri_0003 TEL-産総研先端材料・プロセス開発連携研究室
冨田博之
1 クリーンルームを主とする研究設備の管理補助および研究補助業務

ナノプロセシング施設運営室

更新日 公募No 募集担当 募集人員 業務内容
2026/2/3 2026-npfo_0001
松本壮平
1名 共用施設において、電子線描画装置、露光装置、成膜装置、エッチング装置、分析装置等を用いた研究支援活動を行う。

連絡先
このページについてのお問い合わせは aist-keiyakubosyu-hp-ml@aist.go.jp までお願いします。
※ 本募集内容に関するご質問は、それぞれの問い合わせ先の担当者までお願いします。

▲ ページトップへ