本文へ

第8回(2017年2月)

会期: 2017年2月28日(火) 9:45-16:45
会場: 東京大学 伊藤国際学術研究センター 地下1階 伊藤謝恩ホール

プログラム

10:00-10:05 冒頭挨拶 ナノテクノロジービジネス推進協議会
ナノテクノロジー委員会 ナノカーボンWG/
プラスチック成形加工学会
座長/会長 荒川公平
10:05-10:10 冒頭挨拶 (国研)産業技術総合研究所
ナノチューブ実用化研究センター
研究センター長 畠賢治
10:10-10:15 来賓挨拶 経済産業省
産業技術環境局
研究開発企画官 植木健司
10:15-10:45 NEDO委託事業「低炭素社会を実現する
ナノ炭素実用化プロジェクト」の概要
(国研)産業技術総合研究所
ナノチューブ実用化研究センター/
(技組)単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)
プロジェクトリーダー 湯村守雄
10:45-11:25 ナノ炭素材料及びその応用製品の
排出・暴露評価技術の確立
-ナノ材料簡易自主安全管理技術の
構築に向けて-
(国研)産業技術総合研究所 
エネルギー・環境領域 安全科学研究部門/
(技組)単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)
CNT事業部
サブプロジェクトリーダー 本田一匡
11:25-12:05 ナノ炭素材料の分散体評価技術の開発
-CNTの分散状態を可視化する
技術の開発-
(国研)産業技術総合研究所
ナノチューブ実用化研究センター/
(技組)単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)
CNT事業部
研究開発項目リーダー 岡崎俊也
12:05-12:45 ナノ炭素材料の革新的応用材料開発
-CNT複合材料とその用途の開発-
(国研)産業技術総合研究所
ナノチューブ実用化研究センター/
(技組)単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)
CNT事業部
研究開発項目リーダー 山田健郎
12:45-13:45 昼食
13:45-14:25 ナノ炭素材料の革新的薄膜形成技術開発
-グラフェン研究開発-
(国研)産業技術総合研究所
ナノチューブ実用化研究センター/
(技組)単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)
グラフェン事業部
サブプロジェクトリーダー/
研究開発項目リーダー 長谷川雅孝
14:25-14:55 SGCNT含有熱界面材料 日本ゼオン株式会社
X2プロジェクトリーダー 熊本拓朗
14:55-15:25 カップ積層型CNTとその展開 式会社GSIクレオス ナノテクノロジー開発室
室長 柳澤隆
15:25-15:45 休憩
15:45-16:45 IRENA Project by JST-EC DG RTD,
Strategic International Collaborative
Research Program, SICORP.
Direct Dry Deposited SWNTs for
Transparent conductive films
and thin film transistors
Aalto University
Professor Esko Kauppinen
Growth mechanism of SWNTs -
Theory
CNRS and Aix Marseille University
Professor Christophe Bichara
Growth of SWNTs and device
applications
The University of Tokyo
Professor Shigeo Maruyama
Efficient separation of
semi-conductor SWNTs
Nagoya University
Professor Haruka Omachi and
Hisanori Shinohara

交流会

日時: 2017年2月28日(火) 17:15-19:00
会場: 東京大学内 山上会館

▲ ページトップへ