分野 | 表面処理 |
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有機材料診断 | |
機器名 | 反応スパッタリング装置 |
製造所名と形式 | 株式会社ユーテック YE1721 |
装置の概要 | スパッタリング法およびプラズマCVD法によりセラミックス膜やダイヤモンドライクカーボン膜を真空中で試料表面に形成する装置。 |
仕様・構成 | 4インチマグネトロンスパッタリング×3, ICP電源(1kW),RF電源(500W) 基板加熱回転機構(300℃以下) |
設置年度 | 2000(平成12)年度 |
担当窓口 | 山口県産業技術センター 技術相談・支援室 (0836-53-5053) |
料金 | 11,200円/日 |
備考 | |
全体写真 | ![]() |