環境・エネルギー分野

先進パワーエレクトロニクス研究センター

研究チーム紹介

チーム長
加藤智久

　ワイドバンドギャプ半導体単結晶成長技術、高硬脆材料の切断研磨加工技術、およびそれらの一貫したプロセスによる最適化技術、各種プロセスに伴う微細構造変化に関する評価技術などの研究を行っています。

チーム長
児島一聡

　SiCバルク基板上へのホモエピタキシャル成長技術、デバイスチームとの連携で複雑なデバイス構造作製のためインプロセスでのエピタキシャル成長技術の研究開発を行っています。

チーム長
田中保宣

　SBD、PN接合ダイオード、接合型FET、MOSFET、IGBTなどのSiCパワーデバイスの高耐圧・大容量・低損失等の高性能化、高信頼度化のための技術開発を実施しています。

チーム長
原田信介

　600V,1200Vクラス大容量SiC-SBDならびにSiC-MOSFETの量産技術の開発、及び応用機器・システム検討に供するためのSiCデバイスの小規模量産を担当しています。

チーム長
沈旭強

　SiCとともにワイドギャップ半導体として期待されるGaNの結晶成長、デバイス開発を担当しています。

チーム長
竹内大輔

　究極のワイドバンドギャップ半導体材料として、ダイヤモンド単結晶ウェハとその評価技術の研究開発を行っています。

チーム長
牧野俊晴

ダイヤモンド半導体独自の性質を利用した新しい動作原理に基づく電子デバイスの開発を行っています。

チーム長
佐藤　弘

　ワイドギャップ半導体を用いた電力変換器の設計技術等（回路技術・実装技術・モジュール化技術・シミュレーション技術など）について、研究を進めています。

チーム長
坂本邦博

　新規パワーエレクトロニクス機器開発ニーズに応える新規SiCパワーデバイスを開発・試作し、ワイドバンドギャップ半導体パワーエレクトロニクスの適用領域拡大を目指します。