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回 |
開催日・開催場所※ |
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分類 |
題目 |
所属・肩書き |
発表者 (敬称略) |
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1 |
平成21年4月24日(金)吉塚 |
1 |
平成21年度総会記念講演 |
ナノインプリント技術の開発〜ナノ製造の低コスト化〜 |
産総研 先進製造プロセス研究部門 インプリント製造技術研究グループ 研究グループ長 |
高橋正春 |
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2 |
平成21年度総会記念講演 |
ダイヤモンドは材料のフロンティア |
産総研 ダイヤモンド研究センター 研究センター長 |
藤森直治 |
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2
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平成21年7月22日(水)九大伊都
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会
(KICCとの共催)
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マイクロ複合加工技術とその応用
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福岡工業大学 知能機械工学科 教授
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仙波卓弥
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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超精密研磨/CMP技術とその応用
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九州大学 大学院工学研究院機械工学部門 教授
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土肥俊郎
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3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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マイクロアイスジェットを使った精密洗浄
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リックス株式会社 技術企画部 マネージャー
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星野高明
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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基板洗浄工程の基本的考え方とその実際
〜超精密研磨後の有機残渣除去法〜
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三菱化学株式会社 EL薬品事業部マネージャー
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河瀬康弘
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3
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平成21年8月3日(月)佐世保
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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低温大気圧プラズマの魅力と産業革新
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名古屋大学 大学院工学研究科 教授
名古屋大学プラズマナノ工学研究センター長
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堀 勝
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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緻密化したセラミックス材料の諸特性と半導体・電子部品製造への応用
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日本タングステン株式会社 基山工場 基礎技術センター グループリーダー
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永野光芳
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3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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半導体デバイス・ウェハテストにおけるプロービング技術と先端クリーニング技術
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日本電子材料株式会社 熊本事業所 取締役熊本事業所長
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古ア新一郎
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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プラズマプロセスを用いた水晶素板薄板化技術とSi ダミーウェハの再生技術
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九州電通株式会社 取締役技術部長
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山田 浩
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4
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平成21年9月1日(火)鳥栖
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1
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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ロバストパターン認識技術による動画像中からの異常検知
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産業技術総合研究所 情報技術研究部門
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佐藤雄隆
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2
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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都市基盤の事故災害低減とセンシングによる監視
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東京大学大学院工学系研究科社会基盤学専攻教授
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藤野陽三
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3
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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港湾構造物における維持管理の現状と課題
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港湾空港技術研究所 地盤・構造部 構造研究領域構造研究チーム
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川端雄一郎
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5
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平成21年10月1日(木)博多駅東
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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有機エレクトロニクスのディスプレイ応用
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九州大学 産学連携センター プロジェクト部門 教授
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服部励治
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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微細回路形成におけるスクリーン印刷技術
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パナソニック ファクトリーソリューションズ(株)
開発センター プロセス開発グループ グループマネージャー
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大武裕治
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3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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ナノペーストとプリンテッドエレクトロニクス
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ハリマ化成株式会社 電子材料事業部 企画部長
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小山賢秀
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
ハイパーブランチポリマー及び金属ナノ粒子の開発
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合成研究部 新材料グループ 副主任研究員
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安井 圭
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5
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
無機ナノ粒子を組み込んだ有機・無機ハイブリッドデバイスの開発
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九州大学 先導物質化学研究所 先端素子材料部門 准教授
|
藤田克彦
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6
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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新しい低分子系有機EL 材料
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崇城大学 工学部ナノサイエンス学科 教授
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八田泰三
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7
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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有機EL用正孔輸送材料の開発
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東ソー株式会社 南陽研究所 ファインケミカルグループ 副主任研究員
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松本直樹
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8
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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新しい有機発光デバイスへの展開〜新機構、分子配向、液体半導体〜
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九州大学 未来化学創造センター 光機能材料部門 教授
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安達千波矢
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6
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平成21年10月22日(木)NSM株式会社
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1
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産総研“出前シンポジウム”
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半導体技術の限界への挑戦
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産総研 ナノ電子デバイス研究センター長
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金山敏彦
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2
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産総研“出前シンポジウム”
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新材料・新構造CMOSデバイス技術
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産総研 ナノ電子デバイス研究センター 極限構造トランジスタ研究チーム長
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太田裕之
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3
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産総研“出前シンポジウム”
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次世代多層配線材料・構造と計測・評価技術
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産総研 ナノ電子デバイス研究センター 主幹研究員
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秦 信宏
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4
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産総研“出前シンポジウム”
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量産ラインの製造品質向上技術の研究
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産総研 生産計測技術研究センター 主任研究員
|
上杉文彦
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7
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平成21年10月30日(金)祇園
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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ガスクラスターイオンビームによる非接触・高精度平坦化加工技術
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兵庫県立大学大学院工学研究科
インキュベーションセンター准教授
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豊田紀章
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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計測評価技術の基礎と応用
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九州大学大学院工学研究院 機械工学部門 准教授
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黒河周平
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3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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光描画でサブミクロン、早く・安く・高精度
〜レーザ描画基礎技術の研究開発〜
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株式会社ピーエムティー 取締役
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小坂光二
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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先端分析評価技術の原理と適用事例
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福菱セミコンエンジニアリング
分析評価事業部 技術営業1 課 課長
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杉浦 健
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5
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
半導体ウエハ加工工程での異物検査技術の原理と適用例
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(株)日立ハイテクノロジーズ ナノテクノロジーズ製品事業本部 那珂事業所 光学応用システム設計部 主管技師
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野口 稔
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8
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平成21年11月6日(金)吉塚
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1
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表面・界面技術研究会主催講演会
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スラブ光分光法を用いた固液界面のその場観察方法の開発
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産総研 生産計測技術研究センター 研究チーム長
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松田直樹
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2
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表面・界面技術研究会主催講演会
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アルミナナノホールアレーの構造制御と機能化
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首都大都市環境学部分子応用化学コース 教授(財)神奈川科学技術アカデミー(KAST) グループリーダー
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益田秀樹
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3
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表面・界面技術研究会主催講演会
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糖デンドリマー界面を利用したバイオインターフェースの創製
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北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 准教授
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三浦佳子
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4
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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応力発光とは何か〜現象と応用展開
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産総研 生産計測技術研究センター 主任研究員
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山田浩志
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5
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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応力発光塗膜センサの開発
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産総研 生産計測技術研究センター 主任研究員
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今井祐介
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6
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遠隔モニタリング技術研究会主催講演会
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ユビキタス光源としての応力発光体
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産総研 生産計測技術研究センター 研究員
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寺崎 正
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7
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平成21年度秋季講演会
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先端パワーデバイスの現状と今後の展望
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産総研 エネルギー半導体エレクトロニクス研究ラボ 招聘研究員
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大橋弘通
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8
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平成21年度秋季講演会
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土壌・地下水汚染のリスク管理
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産総研 地圏資源環境研究部門 副研究部門長
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駒井 武
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9
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平成21年11月16日(月)鳥栖
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
位相差検出法を用いたワイヤーボンドの3D 検査装置
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産総研 生産計測技術研究センター 招聘研究員
|
坂井一文
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
多焦点ユニットを用いたIC リードの鮮明画像の取得と高さ計測
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鹿児島県工業技術センター 主任研究員
|
久保 敦
|
|
3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
スペックル干渉法を利用したICの熱膨張計測
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福岡県工業技術センター 専門研究員
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内野正和
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
IC リードフレームのしみ欠陥検出方法の開発
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熊本県産業技術センター 研究参事
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重森清史
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5
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
半導体ウエハ加工工程での異物検査技術の原理と適用例
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九州工業大学 工学研究院
先端機能システム研究系 准教授
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脇迫 仁
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10
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平成21年11月20日(金)熊本
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1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
最先端ナノデバイスのための超損傷・中性粒子ビームプロセス
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東北大学 流体科学研究所 流体融合研究センター知的ナノプロセス研究分野 教授
|
寒川誠二
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|
2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
薄膜Si 太陽電池のためのプラズマCVD 技術のキーポイント
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九州大学大学院 システム情報科学研究院 電子デバイス工学部門 教授
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白谷正治
|
|
3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
大気圧プラズマを用いた太陽電池テクスチャと電極溝の作製
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宮崎大学 工学部 電気電子工学科 准教授
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迫田達也
|
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4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
薄膜Si のプラズマCVD プロセスと微細構造制御
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産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター 研究員
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布村正太
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5
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
大面積・高効率薄膜シリコン太陽電池の開発
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三菱重工(株)原動機事業本部 再生エネルギー事業部 太陽電池事業ユニット 主席技師
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竹内良昭
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11
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平成21年12月25日(金)吉塚
|
1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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次世代太陽電池として期待される色素増感太陽電池の研究開発の現状と今後の動向予測
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九州工業大学大学院
生命体工学研究科 教授
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早瀬修二
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|
2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
有機薄膜太陽電池の最新動向
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産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター 有機新材料チーム長
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吉田郵司
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3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
低分子系有機EL材料の開発動向
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新日鐵化学(株) 機能化学材料研究所 グループリーダー
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宮崎 浩
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4
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
ケミカルエッチングによるポリイミド加工技術の最新動向
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東レエンジニアリング(株)エレクトロニクス事業本部 ファインプロセス事業部 ファインプロセス営業部 微細加工課 課長
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奥薗博和
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12
|
平成22年1月29日(金)博多駅東
|
1
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
超音波振動を援用した加工技術
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九州大学大学院 工学研究院 機械工学部門 准教授
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大西 修
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|
2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
電界砥粒・スラリー制御技術が拓く先進基盤加工技術開発
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秋田県産業技術総合研究センター 上席研究員
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赤上陽一
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|
3
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
エレクトロニクス分野の先端洗浄技術
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三菱電機(株)先端技術総合研究所 主席研究員
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宮本 誠
|
|
4
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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超高速・超平坦化を実現する電解研磨技術
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(株)半導体先端テクノロジーズ バックエンドプロセスプログラム プログラムマネージャー
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近藤誠一
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5
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
「精密液体霧化技術の半導体デバイス洗浄への応用」
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旭サナック(株)NC事業部長 取締役
|
宮地計二
|
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13
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平成22年2月18日(木)機電研
|
1
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
スペックル干渉法を利用したICの熱膨張計測
|
福岡県工業技術センター 専門研究員
|
内野正和
|
|
2
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
IC リードフレームのしみ欠陥検出方法の開発
|
熊本県産業技術センター 研究参事
|
重森清史
|
|
3
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
多焦点ユニットを用いたIC リードの鮮明画像の取得と高さ計測
|
鹿児島県工業技術センター 主任研究員
|
久保 敦
|
|
4
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
位相差検出法を用いたワイヤーボンドの3D 検査装置
|
産総研 生産計測技術研究センター 招聘研究員
|
坂井一文
|
|
5
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
電子部品の高速かつ高精度な二次元・三次元同時形状検査ユニッ トの開発
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和歌山大学 システム工学部メカトロニクス学科 准教授
学生自主創造科学センター・副センター長
|
藤垣元治
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14
|
平成22年3月1日(月)博多
|
1
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
NEDO における3 次元実装技術の取り組み
|
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構
電子・情報技術開発部 プログラムマネージャー
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安藤 淳
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2
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
IMEC’s 3D Integration Design and Technology
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IMEC Business Development
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石谷明彦
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|
3
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
3 次元LSI に向けた九州発のコア技術
|
九州大学大学院システム情報科学研究院情報エレクトロニクス部門 教授
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浅野種正
|
|
4
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
パナソニックの3 次元LSI 作製工程におけるプラズマエッチング技術
|
パナソニックファクトリーソリューションズ
開発センター プラズマ加工開発グループ グループリーダー
|
有田 潔
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15
|
平成22年3月5日(金)吉塚
|
1
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
プラズマエッチングの現状と課題
|
京都大学大学院工学研究科 航空宇宙工学専攻 教授
|
斧 高一
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|
2
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
多重内部反射赤外分光法によるシリコンウエハの汚染診断
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東北大学 電気通信研究所 教授
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庭野道夫
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|
3
|
半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
|
ドライエッチング装置における、ESCウエハステージの現状と課題
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キャノンアネルバ(株)第二ED 事業部 第三プロダクト部 部長
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佐護康実
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|
4
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半導体プロセス研究会主催講演会 (KICCとの共催)
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プラズマを使用する半導体製造装置のアルミ素材と表面処理について
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九州三井アルミニウム工業(株)半導体機器事業本部 製品技術部 部長
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蓮尾俊治
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